基本信息
| 标准名称： | 物理气相沉积TiN薄膜技术条件 |
| 英文名称： | Specifications of physical vapour deposition TiN films |
| 中标分类： | 综合 >> 基础标准 >> 材料防护 |
| ICS分类： | 机械制造 >> 表面处理和涂覆 >> 表面处理 |
| 发布部门： | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 |
| 发布日期： | 2002-03-10 |
| 实施日期： | 2002-08-01 |
| 首发日期： | 2002-03-10 |
| 作废日期： | 1900-01-01 |
| 主管部门： | 中国机械工业联合会 |
| 提出单位： | 中国机械工业联合会 |
| 归口单位： | 全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 武汉材料保护研究所 |
| 起草人： | 凌国伟、李健、倪瀚、黄济群 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 2002-08-01 |
| 页数： | 平装16开， 页数：23， 字数：39千字 |
| 书号： | 155066.1-28611 |
适用范围
本标准规定了物理气相沉积TiN薄膜的技术要求。本标准适用于物理气相沉积TiN薄膜，也适用于其他方法制备的TiN薄膜。本标准也适用于其他材料沉积层（TiC，TiCN，TiAlN等）。
前言
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目录
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引用标准
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所属分类： 综合 基础标准 材料防护 机械制造 表面处理和涂覆 表面处理